Pengaruh pH Larutan Pada Rapat Arus Pada Pelapisan Tembaga Dan Nikel Terhadap Perbandingan Luas Permukaan Katoda dan Anoda

Pencarian berdasarkan :

SEMUA Pengarang Subjek ISBN/ISSN Pencarian Spesifik

Pencarian terakhir:

Image of Pengaruh pH Larutan Pada Rapat Arus Pada Pelapisan Tembaga Dan Nikel Terhadap Perbandingan Luas Permukaan Katoda dan Anoda

Laporan Penelitian Dosen

Pengaruh pH Larutan Pada Rapat Arus Pada Pelapisan Tembaga Dan Nikel Terhadap Perbandingan Luas Permukaan Katoda dan Anoda

Suparni Setyoawti Rahayu - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

PERPUS POLINES (Jurnal) LP 540.1 PEN C1

P000542

Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: -
No. Panggil: LP 540.1 PEN C1
Penerbit: Semarang : Politeknik Negeri Semarang., 1994
Deskripsi Fisik: xi; 98 Hal; 29 cm
Bahasa: Indonesia
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: 540.1
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: KIMIA
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: -

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar