Detail Cantuman

Pencarian Spesifik
Image of Pengaruh pH Larutan Pada Rapat Arus Pada Pelapisan Tembaga Dan Nikel Terhadap Perbandingan Luas Permukaan Katoda dan Anoda

Laporan Penelitian Dosen

Pengaruh pH Larutan Pada Rapat Arus Pada Pelapisan Tembaga Dan Nikel Terhadap Perbandingan Luas Permukaan Katoda dan Anoda


Tidak Tersedia Deskripsi


Ketersediaan

P000542LP 540.1 PEN C1PERPUS POLINES (Jurnal)Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detil

Judul Seri
-
No. Panggil
LP 540.1 PEN C1
Penerbit Politeknik Negeri Semarang : Semarang.,
Deskripsi Fisik
xi; 98 Hal; 29 cm
Bahasa
Indonesia
ISBN/ISSN
-
Klasifikasi
540.1
Tipe Isi
-
Tipe Media
-
Tipe Pembawa
-
Edisi
-
Subyek
KIMIA
Info Detil Spesifik
-
Pernyataan Tanggungjawab

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain




Informasi

DETAIL CANTUMAN

Kembali ke sebelumnyaDetail XMLCite this